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Titandioxid - Sputtertarget

Formel: TiO₂ 99.6

Lieferform: Sputtertarget

Material: Titandioxid

CAS-Nummer: 13463-67-7

Ware: Compounds

Mit 5 verschiedenen Durchmessern und Dicken ermöglichen sie eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und der Abscheidungsrate bei der Herstellung von Dünnschichten. Titandioxid bietet einen hohen Brechungsindex, Fotoaktivität und chemische Inertheit. Anwendungsbeispiele sind optische Beschichtungen, Photokatalysatoren und transparente Schutzschichten. Gesputterte Titandioxid-Filme werden in den Bereichen Optik, Energie und Biomedizin eingesetzt.

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Materialeigenschaften für Compounds

Chemische Beständigkeit

Element	Wert
Säuren - konzentriert	Fair
Säuren - verdünnt	Good
Laugen	Poor
Metalle	Poor

Elektrische Eigenschaften

Element	Wert
Dielektrizitätskonstante	80-100
spezifischer Volumenwiderstand( Ohmcm )	10¹³-10¹⁸@25

Physikalische Eigenschaften

Element	Wert
offensichtliche Porosität( % )	0
Density( gcm⁻³ )	4.05

Thermische Eigenschaften

Element	Wert
Ausglühungspunkt( C )	1850
Wärmeleitfähigkeit( W m⁻¹ K⁻¹ )	2.5-5@20°C
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient( x10⁻⁶ K⁻¹ )	8-10@20-1000°C

Mechanische Eigenschaften

Element	Wert
E-modul im Zugversuch( GPa )	250-300
Härte - Vickers( kgf mm⁻² )	980
Tensile strength( MPa )	350

Pultrusion

Element	Wert
Druckfestigkeit( MPa )	800-1000

Leistungen

Anwendungen

170.000 Produkte

Kein Mindestbestellwert

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Titandioxid - Sputtertarget

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