Hafnium > 0,2 % Zirconium - Sputtertarget

Sie bestehen aus Hafnium, das zur Verbesserung bestimmter Eigenschaften mit einem geringen Anteil an Hafnium dotiert ist. Die Zirkonium-Hafnium-Legierung sorgt für eine hohe thermische Stabilität, Korrosionsbeständigkeit und gleichmäßige Sputteringraten. Diese Sputtertargets werden häufig bei der Herstellung von Halbleiterchips und Dünnfilmbeschichtungen für optische, elektrische und thermische Anwendungen eingesetzt.

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