Zinkoxid/Galliumoxid - Sputtertarget (2% GZO)

Diese mit 2% Gallium dotierte Zinkoxidscheibe weist eine hohe elektrische Leitfähigkeit und eine ausgezeichnete optische Transparenz auf. Gesputterte Zinkoxidschichten werden in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter transparente leitende Oxide, Photovoltaikzellen und Dünnschichttransistoren. Mit ihrer hohen Reinheit und einheitlichen Zusammensetzung sind diese 2%igen GZO-Scheiben ideal für das reaktive Sputtern von ultradünnen transparenten leitenden Oxidschichten.

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