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Alumina - Sputtertarget

Sputtertarget - Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

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Produkt
Produkt AL60-ST-000100 99,99 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 2 mm dick	Purity 99.99%	Dicke 2mm	Durchmesser 25.4mm
Produkt AL60-ST-000101 99,99 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 3,15 mm dick	Purity 99.99%	Dicke 3.15mm	Durchmesser 20mm - 76.2mm
Produkt AL60-ST-000200 99,5 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 3,15 mm dick	Purity 99.5%	Dicke 3.15mm	Durchmesser 25.4mm - 100.5mm
Produkt AL60-ST-000201 99,5 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 5 mm dick	Purity 99.5%	Dicke 5mm	Durchmesser 50mm
Produkt AL60-ST-000300 99,5 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 6,35 mm dick	Purity 99.5%	Dicke 6.35mm	Durchmesser 50.8mm - 76.2mm
Produkt AL60-ST-000301 99,99 % Aluminiumoxid - Sputtertarget-Scheibe 6,35 mm dick	Purity 99.99%	Dicke 6.35mm	Durchmesser 50.8mm - 76.2mm

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