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Formel: Si₃N₄
Lieferform: Sputtertarget
Material: Heißgepresstes Siliciumnitrid
Ware: Ceramics
Produktionsverfahren:
Heißgepresst
Sie sind in 6 Größenvarianten erhältlich und können für den Einsatz als Sputtertargets in Dünnschichtabscheidungssystemen angepasst werden. Ihre Siliziumnitridzusammensetzung bietet Eigenschaften wie hohe Härte, Verschleißfestigkeit und chemische Inertheit, was sie für Dünnschichtanwendungen wie Schutzbeschichtungen, Halbleiterbauelemente und optische Beschichtungen nützlich macht.
Materialeigenschaften für Ceramics
Chemische Beständigkeit
| Element | Wert |
|---|---|
| Säuren - konzentriert | Fair |
| Säuren - verdünnt | Good |
| Laugen | Good-Poor |
| Halogene | Good |
| Metalle | Fair |
Elektrische Eigenschaften
| Element | Wert |
|---|---|
| Dielektrizitätskonstante | 10 |
| spezifischer Volumenwiderstand( Ohmcm ) | 10¹²-10¹⁵@25 |
Physikalische Eigenschaften
| Element | Wert |
|---|---|
| offensichtliche Porosität( % ) | 0 |
| Density( gcm⁻³ ) | 3.11 |
Thermische Eigenschaften
| Element | Wert |
|---|---|
| Sublimationspunkt( C ) | 1900 |
| max. Dauergebrauchstemperatur( C ) | 1100-1650 |
| Spezifische Wärme( J K⁻¹ kg⁻¹ ) | 680-800@25°C |
| Wärmeleitfähigkeit( W m⁻¹ K⁻¹ ) | 15-43@20°C |
| Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient( x10⁻⁶ K⁻¹ ) | 3.3@20-1000°C |
Mechanische Eigenschaften
| Element | Wert |
|---|---|
| E-modul im Zugversuch( GPa ) | 280-310 |
| Härte - Vickers( kgf mm⁻² ) | 1700-2200 |
| Scherfestigkeit( MPa ) | 480-960 |
| Tensile strength( MPa ) | 400-580 |
Pultrusion
| Element | Wert |
|---|---|
| Druckfestigkeit( MPa ) | 2000-3500 |
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Zinkoxid/Aluminiumoxid (ZnO99/Al₂O₃1) - Sputtertarget Formula: ZnO 99/Al₂O₃ 1
Thickness: 3mm
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Mengenrabatt
