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Heißgepresstes Siliciumnitrid - Sputtertarget

Sie sind in 6 Größenvarianten erhältlich und können für den Einsatz als Sputtertargets in Dünnschichtabscheidungssystemen angepasst werden. Ihre Siliziumnitridzusammensetzung bietet Eigenschaften wie hohe Härte, Verschleißfestigkeit und chemische Inertheit, was sie für Dünnschichtanwendungen wie Schutzbeschichtungen, Halbleiterbauelemente und optische Beschichtungen nützlich macht.
Formel: Si₃N₄
Dicke: 3 mm
Durchmesser: 50,8 mm
Produktionsverfahren: Heißgepresst
UOM-Code: 280-077-82
SKU: 1000118098
Produktcode: SJ61-ST-000100
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Materialeigenschaften für Ceramics

Chemische Beständigkeit
Element Wert
Säuren - konzentriert Fair
Säuren - verdünnt Good
Laugen Good-Poor
Halogene Good
Metalle Fair
Elektrische Eigenschaften
Element Wert
Dielektrizitätskonstante 10
spezifischer Volumenwiderstand( Ohmcm ) 10¹²-10¹⁵@25
Physikalische Eigenschaften
Element Wert
offensichtliche Porosität( % ) 0
Density( gcm⁻³ ) 3.11
Thermische Eigenschaften
Element Wert
Sublimationspunkt( C ) 1900
max. Dauergebrauchstemperatur( C ) 1100-1650
Spezifische Wärme( J K⁻¹ kg⁻¹ ) 680-800@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m⁻¹ K⁻¹ ) 15-43@20°C
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient( x10⁻⁶ K⁻¹ ) 3.3@20-1000°C
Mechanische Eigenschaften
Element Wert
E-modul im Zugversuch( GPa ) 280-310
Härte - Vickers( kgf mm⁻² ) 1700-2200
Scherfestigkeit( MPa ) 480-960
Tensile strength( MPa ) 400-580
Pultrusion
Element Wert
Druckfestigkeit( MPa ) 2000-3500
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