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Heißgepresstes Siliciumcarbid - Sputtertarget

Formel: SiC
Lieferform: Sputtertarget
Material: Heißgepresstes Siliciumcarbid
Ware: Ceramics
Precision Cutting Available: Nein
Siliziumkarbid bietet Eigenschaften wie hohe Härte, chemische Inertheit und Hitzebeständigkeit. Diese Scheiben können für die Herstellung dünner Schichten in Bereichen wie Elektronik, Optik und Oberflächentechnik verwendet werden. Unser Angebot an Sputtertargets aus Siliziumkarbid umfasst mehrere Größenvariationen und bietet anpassbare Lösungen für Sputterprozesse in Forschung und Industrie.
Technisches Datenblatt Sicherheitsdatenblatt Toleranz Eigenschaften
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Materialeigenschaften für Ceramics

Chemische Beständigkeit
Element Wert
Säuren - konzentriert Good
Säuren - verdünnt Good
Laugen Good-Poor
Halogene Good-Poor
Metalle Fair
Elektrische Eigenschaften
Element Wert
Dielektrizitätskonstante 40
spezifischer Volumenwiderstand( Ohmcm ) 10³-10⁵@25
Physikalische Eigenschaften
Element Wert
offensichtliche Porosität( % ) 0
Density( gcm⁻³ ) 3.15
Thermische Eigenschaften
Element Wert
Ausglühungspunkt( C ) 2650-2950
max. Dauergebrauchstemperatur( C ) 1500-1650
Spezifische Wärme( J K⁻¹ kg⁻¹ ) 670-710@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m⁻¹ K⁻¹ ) 90-160@20°C
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient( x10⁻⁶ K⁻¹ ) 4.5@20-1000°C
Mechanische Eigenschaften
Element Wert
E-modul im Zugversuch( GPa ) 200-500
Härte - Vickers( kgf mm⁻² ) 2400-2800
Scherfestigkeit( MPa ) 210-380
Tensile strength( MPa ) 400
Pultrusion
Element Wert
Druckfestigkeit( MPa ) 1000-1700

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