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Formel: HfO₂
Lieferform: Sputtertarget
Material: Hafniumoxid
CAS-Nummer: 12055-23-1
Ware: Compounds
Dicke:
3mm
Produktionsverfahren:
Heißgepresst
Diese Scheiben ermöglichen die Abscheidung dünner Hafniumoxidschichten durch Sputterbeschichtungstechniken. Die kontrollierte Zusammensetzung und die dichte Struktur dieser Targets machen sie ideal für die Herstellung von Hafniumoxidschichten mit sehr geringen Verunreinigungsgraden. Zu den wichtigsten Anwendungen für Hafniumoxid-Dünnschichten gehören optische Beschichtungen, Mikroelektronik und Schutzschichten.
Das kauften andere Kunden
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Titandioxid - Pulver Formula: TiO₂ 99.6%
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 500g
CAS Number: 13463-67-7
UOM Code: 197-608-67
pro Stück.Ab 193,09 €
Mengenrabatt -
Zinkoxid - Pulver Formula: ZnO
Percentage Purity: 99.999%
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 200g
UOM Code: 048-260-33
pro Stück.Ab 167,82 €
Mengenrabatt -
Titandioxid - Folie/Platte Formel: TiO₂ 99,6 %
Dicke: 2 mm
Länge 1: 25 mm
Länge 2: 25 mm
CAS-Nummer: 13463-67-7
UOM-Code: 625-195-31
pro Stück.Ab 487,94 €
Mengenrabatt -
Zinkarsenid - Pulver Formula: Zn₃As₂
Percentage Purity: 99%
Maximum Particle Size: 150µm
Weight: 200g
UOM Code: 032-413-58
pro Stück.Ab 250,76 €
Mengenrabatt -
Wolframtrioxid - Pulver Formula: WO₃
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 50g
CAS Number: 1314-35-8
UOM Code: 365-623-61
pro Stück.Ab 191,30 €
Mengenrabatt -
pro Stück.
Ab 172,02 €
Mengenrabatt
