Silicium - Sputtertarget

Sie sind in 15 Varianten erhältlich und ermöglichen eine präzise Steuerung des Siliziumabscheidungsprozesses für eine Vielzahl von wissenschaftlichen und industriellen Anwendungen. Sie weisen Eigenschaften wie einen geringen spezifischen Widerstand und eine hohe Ladungsträgerbeweglichkeit auf und sind daher ideal für die Mikroelektronik, Photovoltaik und Halbleiterbauelemente. Um eine hervorragende Leistung zu gewährleisten, werden unsere Silizium-Sputter-Targets präzise bearbeitet und sind mit allen gängigen Sputteranlagen kompatibel.

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