Cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium
La cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 2 variantes. Disponibles en deux variantes, ces disques de nitrure d'aluminium de haute pureté présentent une conductivité thermique, une résistivité électrique et une dureté exceptionnelles. Utilisés en microélectronique, optoélectronique et photovoltaïque, ils permettent le dépôt précis de couches minces pour les dispositifs semi-conducteurs avancés, les LED, les diodes laser et les cellules solaires. La composition uniforme et la structure dense de ces cibles de pulvérisation les rendent idéales pour produire des films de nitrure lisses et sans défauts par pulvérisation magnétron ou dépôt par faisceau d'ions.
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Cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium Épaisseur: 3mm
Nom technique: nitrure d'aluminium
Formule: AlN
Densité: 3.26g/cm³
Numéro CAS: 24304-00-5
Diamètre: 50mm
Code UOM: 886-556-42677,10 € À partir de 501,05 €par unitéPrix unitaire dégressif selon la quantité -
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Cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium Épaisseur: 6mm
Nom technique: nitrure d'aluminium
Formule: AlN
Densité: 3.26g/cm³
Numéro CAS: 24304-00-5
Diamètre: 50mm
Code UOM: 326-830-91798,67 € À partir de 591,01 €par unitéPrix unitaire dégressif selon la quantité
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