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Cible de pulvérisation cathodique en oxyde de zinc-oxyde de gallium (2% GZO)

Composition: ZnO 98/Ga₂O₃ 2

Forme: Cible de pulvérisation

Matériau: oxyde de zinc-oxyde de gallium (2 % GZO)

Catégorie: Compounds

Épaisseur: 5mm

Diamètre: 25mm

La cible de pulvérisation cathodique en oxyde de zinc-oxyde de gallium (2% GZO) est un produit de la gamme Goodfellow disponible en une seule variante. Ce disque d'oxyde de zinc dopé avec 2 % de gallium présente une conductivité électrique élevée et une excellente transparence optique. Les films d'oxyde de zinc pulvérisés sont utilisés dans une variété d'applications, notamment les oxydes conducteurs transparents, les cellules photovoltaïques et les transistors à couche mince. D'une grande pureté et d'une composition uniforme, ces disques de GZO à 2 % sont idéaux pour la pulvérisation réactive de couches d'oxyde conducteur transparentes ultra-minces.

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