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Cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium

La cible de pulvérisation cathodique en nitrure d'aluminium est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 2 variantes. Ces cibles de nitrure d'aluminium de haute pureté présentent une conductivité thermique, une résistivité électrique et une dureté exceptionnelles. Utilisés en microélectronique, optoélectronique et photovoltaïque, elles permettent le dépôt précis de couches minces pour les dispositifs semi-conducteurs avancés, les LED, les diodes laser et les cellules solaires. La composition uniforme et la structure dense de ces cibles de pulvérisation les rendent idéales pour produire des films de nitrure lisses et sans défauts par pulvérisation magnétron ou dépôt par faisceau d'ions.
Formule: AlN
Épaisseur: 6 mm
Diamètre: 50 mm
Numéro CAS: 24304-00-5
Code UOM: 326-830-91
REF: 1000022332
Code produit: AL52-ST-000200
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Propriétés des matériaux pour Compounds

Propriétés physiques
Element Valeur
Density( gcm⁻³ ) 3.26
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