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Alphabetische Materialliste - Verbindung - Sputtertargete

Verbindung

Goodfellow bietet eine breite Palette an Verbindungen als Pulver, Granulat, Sputtertarget oder Einkristall an. Andere Formen sind oft auf Wunsch erhältlich. Unsere Website listet die Verbindungen, die auf Lager für einen schnellen Versand zur Verfügung stehen. Bitte teilen Sie uns Ihre Spezifikationen mit.

Sputtertarget

Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

Toleranzen
Dicke:   ±0,5 mm  
Größe:   ±0,5 mm  
 
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Aluminiumnitrid
Bariumtitanat
Bismuth Ferrite
Calciumfluorid
Cobaltoxid (II)
 
HafniumOxid
Indiumoxid
Indiumoxid/Zinnoxid
Lithium Cobalt Oxide
Lithium Lanthanum Zirconium Oxide
 
Lithium Manganese Oxide
Lithium Nickel Manganese Oxide
Lithium Orthosilicate
Lithium Phosphate
Magnesiumoxid
 
Molybdändisilicid
Nickeloxid
Samarium ferrite
Tantalpentoxid
Titanborid
 
Titannitrid
Wolframsilicid
WolframTrioxid
Zinc Oxide / Gallium Oxide 2% - GZO
Zinkoxid
 
Zinnoxid
Zirconiumnitrid
 

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