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Cible de pulvérisation cathodique en quartz fondu

Composition: SiO₂

Forme: Cible de pulvérisation

Matériau: quartz fondu

Numéro CAS: 14808-60-7

Catégorie: Ceramics

La cible de pulvérisation cathodique en quartz fondu est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 10 variantes. Ces cibles présentent une excellente stabilité chimique et physique à haute température, ce qui les rend idéales pour les applications de pulvérisation où une pureté et une uniformité élevées sont requises. Elles sont couramment utilisées en microélectronique et dans la fabrication de semi-conducteurs pour déposer des couches minces et uniformes de quartz sur des plaquettes de silicium ou autres substrats.

Favoris

Fiche technique Fiche de données de sécurité Tolérance Propriétés

par unité

Propriétés des matériaux pour Ceramics

Résistance chimique

Element	Valeur
Acides - concentrés	Good
Acides - dilués	Good
Alcalins	Fair
Halogènes	Good
Métaux	Fair

Propriétés électriques

Element	Valeur
Constante diélectrique	3.8
Résistance diélectrique( kV mm⁻¹ )	25-40
Résistivité volumique( Ohmcm )	10¹⁸@25

Propriétés physiques

Element	Valeur
Indice de réfraction	1.46
Gamme de transmission optique utile	180-2500nm
Absorption d'eau - saturation( % )	0
Absorption d'eau - saturation( % )	0
Density( gcm⁻³ )	2.2

Propriétés thermiques

Element	Valeur
Point de fusion( C )	1715
Temp. maximale d'utilisation continue( C )	1100-1400
Chaleur spécifique( J K⁻¹ kg⁻¹ )	670-740@25°C
Conductivité thermique( W m⁻¹ K⁻¹ )	1.46@20°C
Coefficient d'expansion thermique( x10⁻⁶ K⁻¹ )	0.54@20-1000

Propriétés mécaniques

Element	Valeur
Module de tension( GPa )	72-74
Dureté - Knoop( kgf mm⁻² )	820
Dureté - Vickers( kgf mm⁻² )	1000
Résistance au cisaillement( MPa )	70
Tensile strength( MPa )	48