Cible de pulvérisation cathodique en rhénium
La cible de pulvérisation cathodique en rhénium est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 3 variantes. Ces disques de rhénium de haute pureté sont idéaux pour le dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique. Leur dureté exceptionnelle, leur point de fusion élevé et leur résistance à la corrosion les destinent à des applications de revêtement nécessitant une stabilité thermique et une durabilité, telles que les dispositifs semi-conducteurs, les cellules solaires et les revêtements optiques. Les films de rhénium pulvérisés sont également utilisés dans les thermocouples à haute température et les dispositifs de détection des radiations.
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Cible de pulvérisation cathodique en rhénium Épaisseur: 1.6mm
Diamètre: 25.4mm
Nom technique: rhénium
Formule: Re
Pourcentage de pureté: 99.99%
Densité: 21.04g/cm³
Numéro CAS: 7440-15-5
Code UOM: 482-799-32732,50 € À partir de 542,05 €par unitéPrix unitaire dégressif selon la quantité -
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Cible de pulvérisation cathodique en rhénium Épaisseur: 1mm
Diamètre: 25.4mm
Nom technique: rhénium
Formule: Re
Pourcentage de pureté: 99.99%
Densité: 21.04g/cm³
Numéro CAS: 7440-15-5
Code UOM: 154-792-07481,35 € À partir de 356,20 €par unitéPrix unitaire dégressif selon la quantité -
Cible de pulvérisation cathodique en rhénium Épaisseur: 1mm
Diamètre: 50.8mm
Nom technique: rhénium
Formule: Re
Pourcentage de pureté: 99.99%
Densité: 21.04g/cm³
Numéro CAS: 7440-15-5
Code UOM: 354-905-061 098,74 € À partir de 813,07 €par unitéPrix unitaire dégressif selon la quantité
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