Cible de pulvérisation cathodique en ruthénium

La cible de pulvérisation cathodique en ruthénium est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 8 variantes. Leur densité élevée, leur dureté et leur résistance à la corrosion en font des cibles de pulvérisation dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de fines couches de ruthénium. Ils peuvent également être utilisés dans d'autres procédés de revêtement nécessitant une source de ruthénium. Grâce à leur gamme de tailles et de puretés, nos cibles de pulvérisation de ruthénium constituent la source de ruthénium idéale pour la recherche et les applications de revêtement industrielles.

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