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Cible de pulvérisation cathodique en oxyde d'indium-oxyde d'étain

Composition: In₂O₃ 90 /SnO₂ 10
Forme: Cible de pulvérisation
Matériau: oxyde d'indium-oxyde d'étain
Catégorie: Compounds
Méthode De Production: Pressage à chaud
La cible de pulvérisation cathodique en oxyde d'indium-oxyde d'étain est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 5 variantes. Ces disques en oxyde d'indium et d'étain présentent une conductivité électrique et une transparence optique ajustables qui les rendent idéaux pour des applications telles que les électrodes transparentes dans les écrans tactiles, les écrans plats, les fenêtres intelligentes et les cellules photovoltaïques. La composition contrôlée et la grande pureté de ces disques cibles de pulvérisation permettent un dépôt de couches minces fiable et de haute qualité.
Fiche technique Fiche de données de sécurité Tolérance Propriétés
par unité

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Propriétés des matériaux pour Compounds

Propriétés physiques
Element Valeur
Density( gcm⁻³ ) 7.16

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