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Cible de pulvérisation cathodique en oxyde d'indium-oxyde d'étain

La cible de pulvérisation cathodique en oxyde d'indium-oxyde d'étain est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 5 variantes. Ces disques en oxyde d'indium et d'étain présentent une conductivité électrique et une transparence optique ajustables qui les rendent idéaux pour des applications telles que les électrodes transparentes dans les écrans tactiles, les écrans plats, les fenêtres intelligentes et les cellules photovoltaïques. La composition contrôlée et la grande pureté de ces disques cibles de pulvérisation permettent un dépôt de couches minces fiable et de haute qualité.
Formule: In₂O₃ 90 /SnO₂ 10
Épaisseur: 3 mm
Diamètre: 50 mm
Méthode de production: Pressage à chaud
Code UOM: 404-614-54
REF: 1000124952
Code produit: IN51-ST-000100
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Propriétés des matériaux pour Compounds

Propriétés physiques
Element Valeur
Density( gcm⁻³ ) 7.16
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