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Matériaux à haute performances pour des conditions extrêmes.
Matériaux innovants et légers aux caractéristiques mécaniques et à la durabilité élevées.
Matériaux biocompatibles de haute pureté pour des dispositifs et des applications de haute performance.
Matériaux avancés dotés de performances électriques ou d'isolation élevées.
Polymères, feuilles métalliques et matériaux durables pour vos besoins d'emballage.
Métaux et alliages de haute pureté sous différentes formes adaptés à vos besoins.
Des matériaux de pointe pour les nouvelles technologies.
Matériaux à haute performance pour des conditions extrêmes.
Feuilles et disques aux propriétés optiques variées pour faciliter vos innovations.
Matériaux durables pour les environnements corrosifs.
Matériaux de haute qualité pour les énergies renouvelables.
Matériaux utilisés en génie chimique, des produits de consommation aux applications innovantes.
170 000 produits et une capacité de transformation en interne pour répondre à vos exigences de recherche scientifique.
Soutien à la recherche universitaire avec des matériaux avancés.
Matériaux biocompatibles et biodégradables répondant aux normes les plus strictes.
Matériaux de très haute qualité pour répondre à vos besoins de stockage en énergie.
Matériaux de haute pureté pour améliorer la reproductibilité et la fiabilité de vos processus d'évaporation.
Produits de marque de très haute qualité sous diverses formes pour répondre aux besoins des technologies spatiales.
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Affichage navigation
Composition: HfO₂
Forme: Cible de pulvérisation
Matériau: oxyde de hafnium
Numéro CAS: 12055-23-1
Catégorie: Compounds
Épaisseur:
3mm
Méthode De Production:
Pressage à chaud
La cible de pulvérisation cathodique en oxyde de hafnium est un produit de la gamme Goodfellow disponible en 2 variantes. Ces disques permettent de déposer des couches mince à l'aide de techniques de revêtement par pulvérisation cathodique. La composition contrôlée et la structure dense de ces cibles les rendent idéales pour produire des couches d'oxyde d'hafnium avec des niveaux d'impureté très faibles. Les principales applications des couches minces d'oxyde d'hafnium sont les revêtements optiques, la microélectronique et les revêtements de protection.
Achats d'autres clients
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Poudre de pentoxyde de vanadium Formula: V₂O₅
Maximum Particle Size: 400µm
Weight: 200g
UOM Code: 170-537-25
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Prix unitaire dégressif selon la quantité -
Poudre d'oxyde de zinc Formula: ZnO
Percentage Purity: 99.999%
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 200g
UOM Code: 048-260-33
par unitéÀ partir de 167,82 €
Prix unitaire dégressif selon la quantité -
Poudre de trioxyde de tungstène Formula: WO₃
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 50g
CAS Number: 1314-35-8
UOM Code: 365-623-61
par unitéÀ partir de 191,30 €
Prix unitaire dégressif selon la quantité -
Poudre de dioxyde de titane Formula: TiO₂ 99.6%
Maximum Particle Size: 45µm
Weight: 500g
CAS Number: 13463-67-7
UOM Code: 197-608-67
par unitéÀ partir de 193,09 €
Prix unitaire dégressif selon la quantité -
Poudre d'arséniure de zinc Formula: Zn₃As₂
Percentage Purity: 99%
Maximum Particle Size: 150µm
Weight: 200g
UOM Code: 032-413-58
par unitéÀ partir de 250,76 €
Prix unitaire dégressif selon la quantité -
Plaque de dioxyde de titane Formule: TiO₂ 99,6 %
Épaisseur: 2 mm
Longueur 1: 25 mm
Longueur 2: 25 mm
Numéro CAS: 13463-67-7
Code UOM: 625-195-31
par unitéÀ partir de 487,94 €
Prix unitaire dégressif selon la quantité
