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Oxide - Sputtertarget

Sputtertarget - Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

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Produkt
Produkt TA57-ST-000100 Tantalpentoxid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick	-	Dicke 3mm	Durchmesser 50.8mm - 76.2mm
Produkt WA50-ST-000100 Wolframtrioxid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick	Purity 99.9%	Dicke 3mm	Durchmesser 25.4mm - 50.8mm
Produkt WA50-ST-000200 Wolframtrioxid - Sputtertarget-Scheibe 5 mm dick	-	Dicke 5mm	Durchmesser 50mm - 50.8mm
Produkt ZN52-ST-000100 Zinkoxid - Sputtertarget-Scheibe 2,5 mm dick	-	Dicke 2.5mm	Durchmesser 15mm
Produkt ZN52-ST-000200 Zinkoxid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick	-	Dicke 3mm	Durchmesser 50mm - 75mm
Produkt ZN52-ST-000300 Zinkoxid - Sputtertarget-Scheibe 5 mm dick	-	Dicke 5mm	Durchmesser 25mm
Produkt ZN52-ST-000400 Zinkoxid - Sputtertarget-Scheibe 6 mm dick	-	Dicke 6mm	Durchmesser 25.4mm - 76.2mm
Produkt ZN57-ST-000100 Zinkoxid/Galliumoxid (2 % GZO) - Sputtertarget-Scheibe 5 mm dick	-	Dicke 5mm	Durchmesser 25mm

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