Voreinstellungen
SpracheDeutsch
WährungGBP
Liefern anVereinigtes Königreich Großbritannien und Nordirland

Voreinstellungen

GBP
    Gesamt:
     
     Produkte  Artikel
    Versand FREI *

    *Es können eingeschränkte Liefergebühren anfallen

    Einloggen | Anmelden
    • Bor - Sputtertarget

      Das Element Bor wurde 1808 von L.J. Lussac und L.J. Thenard in Paris und Sir Humphrey Davey in London entdeckt. Bor ist ein nichtmetallisches Element, das in verschiedenen Allotropen vorkommt. Es wird selten in natürlicher Umgebung angetroffen, sondern tritt in der Regel als Borat oder Orthoborsäure auf. Bor kommt in der Erdkruste mit einer Häufigkeit von 10 ppm vor; das häufigste Erz ist Borax (Na₂B₄O₇ x 10H₂O). Amorphes Bor ist das häufigste Allotrop und tritt als dunkles Pulver auf, das weder mit Wasser, Sauerstoff, Säuren und Alkalien reagiert. Von besonderer Bedeutung ist Bor in Atomreaktoren, wo Borstahl aufgrund seines Neutronenabsorptionsvermögens als Material für die Kontrollstäbe verwendet wird. Bor-Verbindungen werden in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter auch die Herstellung verschiedener Glastypen und Detergentien. Bor reagiert mit den meisten Metallen unmittelbar. Dies führt zur Bildung von Bormetallen, bei denen es sich um harte, inerte Binär-Verbindungen mit unterschiedlichen Formeln und Anordnungen der Bor-Atome handelt. So kommt es z.B. zu folgenden Verbindungen: Einzelatom (M₂B), Paaratome (M₃B₂), Einzel- und Doppelketten (MB, M₃B₄), Platten (MB₂), B6 Achtflächner (MB₆) und B12 Molekülagglomerate (B₁₂). Bor bildet ebenfalls eine Binärverbindung, Borstickstoff oder Bornitrid, das insbesondere deshalb interessant ist, da es mit Kohlenstoff isoelektrisch ist und in zwei strukturellen Modifikationen auftritt: Bei der einen handelt es sich um eine Schichtstruktur, die der von Graphit ähnelt und weich und schmierig ist, während die andere aufgrund des hohen Drucks, unter dem sie geformt wird, eine sehr harte, stabile, dreiflächige Struktur wie der Diamant aufweist.

      Sputtertarget - Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

    2 Ergebnisse

    Produkt
    Produkt B-00-ST-000100 99,6 % Bor - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick Purity 99.6% Dicke 3mm Durchmesser 25mm - 76.2mm
    Produkt B-00-ST-000200 99,6 % Bor - Sputtertarget-Scheibe 6 mm dick Purity 99.6% Dicke 6mm Durchmesser 25mm - 75mm
    Sie können nicht finden, wonach Sie suchen? Sprechen Sie mit einem unserer technischen Experten.
    Sorry – Your selected filters returned no results.

    Please try a different filter selection or choose from one of the following product types below:

    Sorry, but you need to update your browser to use our website.

    We apologise for any inconvenience this may cause and thanks for your patience.

    To place a phone order:
    US:1 800 821 2870
    UK: 0800 731 4653

    Customer Support: info@goodfellow.com

    Thank you
    The Goodfellow Team

    Sprechen Sie mit unserem Expertenteam, indem Sie anrufen 0800 731 4653 (UK), oder füllen Sie das untenstehende Formular aus.