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    • Ceramiche lavorabili - Sputtering Target

      Sputtering Target - Un materiale ad alta purezza usato come fonte per lo sputtering, un processo di vaporizzazione a freddo nel quale gli atomi vengono fisicamente rimossi dalla superficie target mediante un bombardamento di ioni.

    2 risultati

    Prodotto
    Prodotto AL52-ST-000100 Nitruro di alluminio - Sputtering Target Thickness 3mm Diametro 50mm
    Prodotto AL52-ST-000200 Nitruro di alluminio - Sputtering Target Thickness 6mm Diametro 50mm
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