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    • Nitride - Sputtertarget

      Sputtertarget - Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

    6 Ergebnisse

    Produkt
    Produkt B-60-ST-000100 Bornitrid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick Dicke 3mm Durchmesser 25.4mm - 76.2mm
    Produkt SJ61-ST-000100 Heißgepresstes Siliciumnitrid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick Dicke 3mm Durchmesser 25.4mm - 76.2mm
    Produkt SJ61-ST-000200 Heißgepresstes Siliciumnitrid - Sputtertarget-Scheibe 6 mm dick Dicke 6mm Durchmesser 25.4mm - 76.2mm
    Produkt TI56-ST-000100 Titannitrid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick Dicke 3mm Durchmesser 25.4mm - 50.8mm
    Produkt TI56-ST-000200 Titannitrid - Sputtertarget-Scheibe 6 mm dick Dicke 6mm Durchmesser 25.4mm - 76.2mm
    Produkt ZR53-ST-000100 Zirconiumnitrid - Sputtertarget-Scheibe 3 mm dick Dicke 3mm Durchmesser 50.8mm
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