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    • Carbide - Sputtertarget

      Sputtertarget - Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

    4 Ergebnisse

    Produkt
    Produkt B-61-ST-000100 Borcarbid - heißgepreßt - Sputtertarget Dicke 3mm Durchmesser 50mm - 76.2mm
    Produkt B-61-ST-000200 Borcarbid - heißgepreßt - Sputtertarget Dicke 4mm Durchmesser 30mm
    Produkt SJ60-ST-000150 Siliciumcarbid - heißgepreßt - Sputtertarget Dicke 1.5mm Durchmesser 20 mm
    Produkt SJ60-ST-000100 Siliciumcarbid - heißgepreßt - Sputtertarget Dicke 3mm Durchmesser 25 mm - 101.6 mm
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