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Elenco alfabetico dei Materiali - Composto - Sputtering-Targets

Composto

Goodfellow supplies a wide of compounds, mainly as powder, lump, sputtering target or single crystal, but other forms may be available on request. Our website details those which are available ex-stock for immediate despatch. Please contact us with details of your requirements.

Sputtering Target

Un materiale ad alta purezza usato come fonte per lo sputtering, un processo di vaporizzazione a freddo nel quale gli atomi vengono fisicamente rimossi dalla superficie target mediante un bombardamento di ioni.

Tolerances
Spessore:   ±0,5mm  
Misura:   ±0,5mm  
 
See also Film   Lamine  

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Boruro di titanio
Disiliciuro di molibdeno
Ferrite di bismuto
Fluoruro di calcio
Fosfato di litio
 
Lithium Cobalt Oxide
Lithium Lanthanum Zirconium Oxide
Lithium Manganese Oxide
Lithium Nickel Manganese Oxide
Lithium Orthosilicate
 
Nitruro di alluminio
Nitruro di titanio
Nitruro di zirconio
Ossido di afnio
Ossido di cobalto (II)
 
Ossido di indio
Ossido di indio/Ossido di stagno
Ossido di magnesio
Ossido di nichel
Ossido di stagno
 
Ossido di zinco
Pentossido di tantalio
Samarium ferrite
Siliciuro di tungsteno
Titanato di bario
 
Triossido di tungsteno
Zinc Oxide / Gallium Oxide 2% - GZO
 

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