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Elenco alfabetico dei Materiali - Metallo - Sputtering-Targets

Metallo

A metal is generally considered to be a pure element which readily forms cations. Metals are characterised by their opacity and high thermal and electrical conductivities, the latter properties resulting from the delocalised and mobile nature of the electrons over the crystal structure.

Sputtering Target

Un materiale ad alta purezza usato come fonte per lo sputtering, un processo di vaporizzazione a freddo nel quale gli atomi vengono fisicamente rimossi dalla superficie target mediante un bombardamento di ioni.

Tolerances
Spessore:   ±0,5mm  
Misura:   ±0,5mm  
 
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Afnio
Alluminio
Antimonio
Argento
Berillio
 
Bismuto
Boro
Cadmio
Carbonio
Cerio
 
Cobalto
Cromo
Disprosio
Erbio
Europio
 
Ferro
Gadolinio
Germanio
Indio
Iridio
 
Itterbio
Ittrio
Lantanio
Magnesio
Manganese
 
Molibdeno
Neodimio
Nichel
Niobio
Oro
 
Palladio
Piombo
Platino
Praseodimio
Rame
 
Renio
Rodio
Rutenio
Samario
Selenio
 
Silicio
Stagno
Tantalio
Tellurio
Terbio
 
Titanio
Tulio
Tungsteno
Uranio
Vanadio
 
Zinco
Zirconio
 

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