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Alphabetische Materialliste - Verbindung - Sputtertargete

Verbindung

Goodfellow bietet eine breite Palette an Verbindungen als Pulver, Granulat, Sputtertarget oder Einkristall an. Andere Formen sind oft auf Wunsch erhältlich. Unsere Website listet die Verbindungen, die auf Lager für einen schnellen Versand zur Verfügung stehen. Bitte teilen Sie uns Ihre Spezifikationen mit.

Sputtertarget

Hochreines Material, das zum Sputtern benutzt wird: Es ist ein Kaltaufdampfverfahren, wobei durch Ionenbeschuß Atome physisch von der Targetoberfläche gelöst werden.

Toleranzen
Dicke:   ±0,5 mm  
Größe:   ±0,5 mm  
 
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Aluminiumnitrid
Calciumfluorid
Cobaltoxid (II)
HafniumOxid
Indiumoxid
 
Indiumoxid/Zinnoxid
Lithium Phosphate
Magnesiumoxid
Molybdändisilicid
Nickeloxid
 
Tantalpentoxid
Titanborid
Titannitrid
Wolframsilicid
WolframTrioxid
 
Zinc Oxide / Gallium Oxide 2% - GZO
Zinkoxid
Zinnoxid
Zirconiumnitrid
 

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