Cible de pulvérisation
Matériau de haute pureté utilisé comme source de pulvérisation, procédé de vaporisation à froid où les atomes sont décollés physiquement de la surface de la cible par bombardement d'ions.
| Tolérances | ||||
| Epaisseur: | ±0,5mm | |||
| Taille: | ±0,5mm |
| Voir aussi | Plaques |
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